제품 상세 정보:
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Size: | 2inch,4inch,6inch,5×5,10×10 | Dielectric Constant: | 9.7 |
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Surface Hardness: | HV0.3>2500 | Density: | 3.21 G/cm3 |
Thermal Expansion Coefficient: | 4.5 X 10-6/K | Breakdown Voltage: | 5.5 MV/cm |
Applications: | Communications, Radar systems |
2인치 4인치 6인치 8인치 5×5 mm 10×10 mm 4H-SiC 기판 3C-N 타입 MOS 등급
3C-N 타입 탄화규소(3C-SiC) 기판은 입방정 결정 구조(3C)를 기반으로 하는 광대역 갭 반도체 재료로, 액상 에피택시(LPE) 또는 물리 기상 수송(PVT)을 통해 제조됩니다. 2인치에서 8인치까지의 표준 크기뿐만 아니라 맞춤형 치수(예: 5×5 mm, 10×10 mm)도 지원합니다. 주요 장점으로는 높은 전자 이동도(1,100 cm²/V·s), 넓은 밴드갭(3.2 eV), 높은 열전도율(49 W/m·K) 등이 있으며, 고주파, 고온, 고전력 장치 응용 분야에 이상적입니다.
1. 전기적 성능
2. 전기 자동차(EV)
2. 열적 및 화학적 안정성
2. 전기 자동차(EV)
3. 공정 호환성
밀리미터파 RF 모듈: 3C-SiC 기판은 28 GHz+ 대역의 GaN-on-3C-SiC RF 장치를 가능하게 하여 신호 효율을 향상시킵니다.
2. 전기 자동차(EV)
온보드 충전기(OBC): 3C-SiC 기판은 에너지 손실을 40% 줄여 800V 급속 충전 플랫폼과 호환됩니다.
태양광 인버터: 변환 효율을 1–3% 향상시키고, 고온 환경에서 부피를 40–60% 줄입니다.
방사선 경화 장치: 실리콘 부품을 대체하여 위성 및 로켓 시스템 수명을 연장합니다.
N 타입 3C-SiC, 단결정
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격자 매개변수
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a=4.349 Å
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적층 순서
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ABC
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모스 경도
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≈9.2
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밀도
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2.36 g/cm3
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열팽창 계수
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3.8×10-6/K
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굴절률 @750nm
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n=2.615
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유전 상수
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c~9.66
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열전도율
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3-5 W/cm·K@298K
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밴드갭
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2.36 eV
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항복 전기장
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2-5×106V/cm
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포화 드리프트 속도
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2.7×107m/s
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※ 탄화규소 재료 특성은 참고용입니다.
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2. 4인치 3C N 타입 SiC 기판 탄화규소 기판 두께 350um 프라임 등급 더미 등급
A: 5G RF 모듈, EV 전력 시스템 및 고온 산업 장치에 높은 전자 이동도와 열적 안정성으로 인해 널리 사용됩니다.
Q2: 3C-N 타입 SiC 기판은 성능 면에서 기존 4H-SiC와 어떻게 비교됩니까?
A: 3C-N 타입 SiC는 낮은 저항과 더 나은 고주파 성능(최대 2.7×10⁷ cm/s 전자 속도)을 제공하여 RF 및 소형 전력 전자 장치에 이상적입니다.
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