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제품 소개SiC 기판

시C 다중 웨이퍼 운반판 웨이퍼 받침대용 압력 없는 합금 실리콘 탄화물

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시C 다중 웨이퍼 운반판 웨이퍼 받침대용 압력 없는 합금 실리콘 탄화물

SiC Multi-Wafer Carrier Plate Pressureless Sintered Silicon Carbide For Wafer Support
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큰 이미지 :  시C 다중 웨이퍼 운반판 웨이퍼 받침대용 압력 없는 합금 실리콘 탄화물

제품 상세 정보:
원래 장소: 중국
브랜드 이름: ZMSH
인증: rohs
모델 번호: SIC 멀티 웨이퍼 감수자
결제 및 배송 조건:
가격: by case
배달 시간: 2-4weeks
지불 조건: T/T
상세 제품 설명
속성: SIC-CVD 밀도: 3.21 g/cm ³
단단함: 2500 Vickers 경도 결정립 크기: 2~10 μm
화학적 순도: 99.99995% 승화 온도: 2700 °C
강조하다:

웨이퍼 지원 실리콘 카비드

,

멀티 웨이퍼 운반판

,

프레스우어리스 소결된 탄화 규소

 

요약SiC 트레이

 

시C 다중 웨이퍼 운반판 웨이퍼 받침대용 압력 없는 합금 실리콘 탄화물

 

 

ZMSH의 핵심 경쟁력:


세계 최고의 실리콘 카바이드 (SiC) 반도체 재료 솔루션 공급자로서ZMSH는 독자적인 SiC 멀티 웨이퍼 서셉터를 개발했습니다. 초고 순수 SiC 단일 결정 성장 기술과 고급 코팅 엔지니어링을 활용합니다.이 감수성 물질은 다음을 통해 열 스트레스 균열 및 오염을 포함하여 복합 반도체 제조의 중요한 과제를 해결합니다.

 

· 극도로 높은 열 안정성 (1600°C 이상 작동)
· 나노 스케일 열 전도성 제어 (옆 열 전도성 > 350 W/m·K)
· 화학적으로 무활성 표면 (ASTM G31 III에 따라 산/기저 경화 저항성)


TSMC와 미쓰비시 일렉트릭에서 1,200시간의 신뢰성 테스트를 통해 검증된 이 제품은 6인치 웨이퍼 대량 생산과 8인치 프로세스 자격을 위해 99.95%의 출력을 달성한다.

 

 


 

기술 사양:

 

 

매개 변수 가치 단위 시험 상태
실리콘 탄화물 함량 >995 % -
평균 곡물 크기 4~10 μm (마이크론) -
대량 밀도 >3.14 kg/dm3 -
겉으로 보이는 엽기성 <0.5 부피 % -
비커스 강도 2800 HV0.5 kg/mm2 -
파열 모듈 (3점) 450 MPa 20°C
압축 강도 3900 MPa 20°C
탄력성 모듈 420 GPa 20°C
골절 강도 3.5 MPa·m1·2 -
열전도성 160 W/(m·K) 20°C
전기 저항성 106-108 오름·cm 20°C
열 팽창 계수 4.3 K−1 × 10−6 RT~800°C
최대 적용 온도

1600 (산화 대기)

) / 1950 (무성 대기)

°C 산화물/무활성 대기

 

 


 

주요 특징SiC 트레이

 

시C 다중 웨이퍼 운반판 웨이퍼 받침대용 압력 없는 합금 실리콘 탄화물 0

 

1물질 혁신

 

- 그래요고순도 SiC 단일 결정:물리 증기 운송 (Physical Vapor Transport, PVT) 를 통해 부론 (B) 도핑 <5×1015 cm−3, 산소 (O) 함유 <100 ppm, 배열 밀도 <103 cm−2로 재배SiC 웨이퍼와 일치하는 열 팽창 계수 (CTE) 를 보장합니다 (Δα=0).8×10−6/K)


- 네나노 구조 코팅:200nm TiAlN 코팅의 플라즈마 증강 화학 증기 퇴적 (PECVD) (강도 30GPa, 마찰 계수 <0.15) 은 웨이퍼 긁힘을 최소화합니다.

 

 


2. 열 관리

 

- 그래요그라디언트 열전도:다층 SiC/SiC 복합재료는 8인치 운반체에서 ±0.5°C 온도 균일성을 달성합니다.


- 그래요열 충격 저항:1,000 열주기 (ΔT=1500°C) 를 균열없이 생존하며, 그래피트 운반체를 5배의 수명으로 능가합니다.

 

 


- 네3프로세스 호환성

 

- 그래요멀티 프로세스 지원:MOCVD, CVD 및 Epitaxy와 600~1600°C 및 1~1000 mbar에서 호환됩니다.


- 그래요웨이퍼 크기 유연성:GaN-on-SiC와 SiC-on-SiC 헤테로 구조를 위한 2~12인치 웨이퍼를 지원합니다.

 

 


 

의 주요 응용 프로그램SiC 트레이

- 네시C 다중 웨이퍼 운반판 웨이퍼 받침대용 압력 없는 합금 실리콘 탄화물 1

1화합물 반도체 제조

 

· GaN 전원 장치:1200°C에서 4인치 GaN-on-SiC 웨이퍼에 2.5kV MOSFET의 대동맥성장을 가능하게 하며, <5×104 cm−2 결함 밀도를 달성한다.


· SiC RF 장치:HEMT에 대한 4H-SiC-on-SiC heteroepitaxy를 지원합니다. 220mS/mm 트랜스컨덕턴스 및 1.2 THz 절단 주파수.

 


2. 태양광 및 LED

 

· HJT 패시베이션 레이어:MOCVD에서 <1×106cm−2의 인터페이스 결함을 달성하여 태양 전지 효율을 26%까지 증가시킵니다.


· 마이크로 LED 전송:150°C의 정전전지 정렬을 사용하여 5μm LED에 대한 99.5%의 전송 효율을 가능하게 한다.

 


- 네3항공우주 및 핵

 

· 방사선 탐지기:NASA의 우주 탐사 임무를 위해 <3keV FWHM 에너지 해상도로 CdZnTe 웨이퍼를 생산합니다.


· 제어 막대 밀폐:SiC로 코팅된 운반자는 1 × 1019 n/cm2 중성자 방사선에 저항하며, 원자로의 수명은 40년이다.

 

 


 

제품 사진SiC 트레이


ZMSH는 재료 R&D, 프로세스 최적화 및 대량 생산 지원을 아우르는 끝에서 끝까지 기술 솔루션을 제공합니다. 고 정밀 (± 0.0 × 0.0 × 0.0 × 0.0 × 0.0 × 0.0 × 0.0 × 0.0 × 0.0 × 0.0 × 0.0 × 0.0 × 0.0 × 0.0 × 0.0 × 0.0 × 0.0 × 0.0 × 0.0 × 0.0 × 0.0 × 0.0 × 0.0 × 0.0 × 0.0 × 0.0 × 0.0 × 0.0 × 0.0 × 0.0 × 0.0 × 0.0 × 0.0 × 0.0 × 0.0 × 0.0 × 0.0 × 0.0 × 0.0 × 0.0 × 0.0001mm 용도) 및 나노 스케일 표면 처리 기술 (Ra <5nm), 우리는 반도체, 광전자 및 재생 에너지 분야에 대한 웨이퍼 수준의 캐리어 솔루션을 제공하여 99.95%의 생산성과 성능 신뢰성을 보장합니다.

 

 

시C 다중 웨이퍼 운반판 웨이퍼 받침대용 압력 없는 합금 실리콘 탄화물 2시C 다중 웨이퍼 운반판 웨이퍼 받침대용 압력 없는 합금 실리콘 탄화물 3

 

 


 

질문과 답변

 

1. 질문: SiC 멀티 웨이퍼 서셉터의 주요 장점은 무엇입니까?
A: SiC 멀티 웨이퍼 수세포터는 1600°C 열 안정성, ±0.5°C 균일성, 화학적 무력성 등을 통해 GaN/SiC 전력 장치의 결함 없는 대동성 성장을 가능하게 합니다.

 

 

2Q: 어떻게 SiC 수세터는 제조 효율을 향상?
A: 다중 웨이퍼 정밀 (12-인치) 및 인공지능에 의한 열 조절을 통해 MOSFET에서 주기 시간을 30% 줄이고 결함 밀도를 <5×104cm−2로 줄입니다.

 

 


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