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LNOI 리?? 니오배트 얇은 필름 웨이퍼 4인치 6인치 8인치 X 절단 Y 절단 Z 절단 방향

제품 상세정보

Place of Origin: CHINA

브랜드 이름: ZMSH

인증: rohs

Model Number: LNOI Wafers

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가격: by case

배달 시간: 2-4weeks

Payment Terms: T/T

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리?? 니오바트 얇은 필름 웨이퍼

,

4'' 리?? 니오바트 얇은 필름 웨이퍼

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8' 리?? 니오바트 얇은 필름 웨이퍼

Materials::
Lithium Niobate Single Crystal
크기::
4 인치 6 인치 8 인치
Thickness::
300-1000nm
Orientation::
X-axis cut, Y-axis cut, Z-axis cut
Density::
D=4.64(g/cm3)
적용:
고속 광학 통신, 양자 광학
Materials::
Lithium Niobate Single Crystal
크기::
4 인치 6 인치 8 인치
Thickness::
300-1000nm
Orientation::
X-axis cut, Y-axis cut, Z-axis cut
Density::
D=4.64(g/cm3)
적용:
고속 광학 통신, 양자 광학
LNOI 리?? 니오배트 얇은 필름 웨이퍼 4인치 6인치 8인치 X 절단 Y 절단 Z 절단 방향

 

LNOI 웨이퍼의 요약

 

 

LNOI 리?? 니오배트 얇은 필름 웨이퍼 4인치 6인치 8인치 X 절단 Y 절단 Z 절단 방향 0

LNOI 리?? 니오배트 얇은 필름 웨이퍼 4인치 6인치 8인치 X 절단 Y 절단 Z 절단 방향

 

LNOI (Lithium Niobate on Insulator) 웨이퍼는 격리 기체 (예를 들어, 실리콘, 사파이어,이온 이식 및 직접 결합 기술을 통해.

 

주요 장점은 다음과 같습니다.
· 유연한 크기: 조정 가능한 필름 두께 (표준 600nm, 마이크로 스케일까지 확장) 로 사용자 정의 가능한 4~8인치 웨이퍼.

· 이질적 통합: 전기 광학 변조기, 양자 광원 등의 일체 통합을 위해 실리콘, 질소 및 유리와 호환됩니다.

· ZMSH 서비스: 웨이퍼 설계, 접착 프로세스 최적화, 웨이퍼 수준 제조 (사진, 에치, 금속화) 및 대량 생산에 프로토타입을 만드는 풀 키 솔루션.

 

 


 

일제 (LNOI) 웨이퍼에 X-컷 리?? 니오바트 사양

 

 

S.N. 매개 변수 사양
1 LNOI 웨이퍼 일반 사양
1.1 구조 LiNbO3 / 산화물 / Si
1.2 직경 Φ100 ± 0.2mm
1.3 두께 525 ± 25μm
1.4 기본 평면 길이 32.5 ± 2mm
1.5 웨이퍼 비벨링 R 타입
1.6 LTV <1.5μm (5×5 mm2) / 95%
1.7 굴복 +/-50μm
1.8 워프 <50μm
1.9 가장자리 정비 2 ± 0.5mm
2 리?? 니오바트 층 사양
2.1 평균 두께 400 nm ± 10 nm
2.2 방향성 X축 ±0.5°
2.3 기본 평면 방향 Z축 ±1°
2.4 앞면 부러움 (Ra) < 1 nm
2.5 채권 결함 >1mm 누적 80분당 ≤1mm
2.6 앞면 경사 >1cm 누적 ≤3cm 내의 ≤1cm
3 산화물 (SiO2) 층 사양
3.1 두께 4700 ± 150 nm
3.2 통일성 ± 5%
4 Si 계층 사양
4.1 소재
4.2 방향성 <100> ±1°
4.3 기본 평면 방향 <110> ±1°
4.4 저항성 > 10 kΩ·cm
4.5 뒷면 새겨진
참고:시용/최근 OEM의 허가 필요

 

 


 

 

주요 특징LNOI 웨이퍼

 

 

- 네1. 물질적 특성:

· 높은 전기 광학 계수 (r33 ≈ 30 pm/V) 와 넓은 투명성 창 (0.35μm), UV-MIR 응용 프로그램을 가능하게합니다.

· 초고속 변조 및 양자 주파수 변환을 위한 극저도 파도 유도 손실 (<0.3 dB/cm) 및 높은 비선형성.

 

 

2.프로세스 장점:

· 300nm 이하의 필름은 > 60 GHz 대역폭 변조기를 지원하여 모달 볼륨을 줄입니다.

· 결합 인터페이스 엔지니어링 (예를 들어, amorphous 실리콘 층) 을 통해 열 확장 불일치 완화.

 

 

- 네3. 성과 비교:

· 실리콘 광학/인프라: 낮은 전력 소비 (<3V 반파전압), 더 높은 소멸 비율 (>20 dB), 50% 더 작은 발자국.

 

 


 

의 주요 응용 프로그램LNOI 웨이퍼

 LNOI 리?? 니오배트 얇은 필름 웨이퍼 4인치 6인치 8인치 X 절단 Y 절단 Z 절단 방향 1

 

1.고속 광통신:

- 그래요전기 광학 변조기: 800 Gbps/1.6 Tbps 모듈을 >40 GHz 대역폭으로, 실리콘보다 3배 효율성을 가능하게 한다.

- 네- 일관성 모듈: 소손실과 높은 신뢰성을 가진 장거리 전송을 위해 실리콘 광학과 이질적으로 통합됩니다.

 

- 네2. 양자 정보 시스템:

- 네- 양자 광원: 칩에 있는 양자 상태 조작을 위한 통합된 얽힌 광자 쌍 생성기

- 그래요양자 컴퓨팅 칩: 큐비트 제조 및 오류 용인 아키텍처를 위해 LiNbO3의 비선형성을 활용하십시오.

 

- 네3. 감지 및 영상 촬영:

- 네- 테라헤르츠 감지기: EO 변형을 통해 mm 해상도를 가진 비 냉동 영상.

- 그래요광섬유 자이로스코프: 항공우주용 고정도 관성 내비게이션

 

- 네4. 광학 컴퓨팅과 인공지능 가속:

- 네- 광학 IC: AI를 병렬 처리하기 위한 최저 지연의 논리 게이트와 스위치

 

 


 

ZMSH의 서비스

 

 

1핵심 서비스:

웨이퍼 커스터마이징: X-컷/Z-컷 오리엔테이션, MgO 도핑 및 묻힌 산화물 층 두께 (50 nm ∼ 20 μm) 와 함께 4 ′′ 8 인치 LNOI 웨이퍼.

이질적 통합: 하이브리드 EO 광학 칩 (예: 레이저 모듈러 단석) 을 위해 실리콘, 사파이어 또는 질산화물과 결합.

제조 서비스: 150 nm UV 리토그래피, 건조 에치, Au/Cr 금속화 및 웨이퍼 수준의 포장/시험.

엔드-투-엔드 지원: 디자인 시뮬레이션 (PIC 스튜디오 도구), 양산 최적화 및 본격적인 생산.

 

 

2기술 발전:

더 큰 웨이퍼: 비용 절감 및 용량 확장을위한 8 인치 LNOI로 전환.

초느다란 필름: 짧은 파장 흡수 한도를 극복하기 위해 <200nm 필름을 개발합니다. (보기 가능한 빛 응용 프로그램).

하이브리드 통합: 레이저 모듈러 통합을 위해 III-V 물질 (InP) 과 결합.

스마트 제조: 결함 (<1 결함/cm2) 을 줄이기 위해 인공지능에 의해 작동되는 에칭 매개 변수 최적화

 

 

 

LNOI 리?? 니오배트 얇은 필름 웨이퍼 4인치 6인치 8인치 X 절단 Y 절단 Z 절단 방향 2LNOI 리?? 니오배트 얇은 필름 웨이퍼 4인치 6인치 8인치 X 절단 Y 절단 Z 절단 방향 3

 

 


 

질문과 답변

 

 

1질문: 리?? 탄탈레이트와 리?? 니오바이트는 같나요?- 네

A: 아닙니다. 리?? 탄탈레이트 (LiTaO3) 와 리?? 니오바트 (LiNbO3) 는 서로 다른 화학 성분을 가진 다른 물질입니다.Nb) 그러나 유사한 결정 구조 (R3c 공간 그룹) 와 철 전기적 특성을 공유합니다.

 

 

2질문: 리?? 니오바이트는 페로브스카이트인가요?- 네

A: 아닙니다. 리?? 니오바트는 정규 ABX3 페로브스카이트 구조와 다른 비 페로브스카이트 구조 (R3c 공간 그룹) 에서 결정화된다. 그러나, 그것은 ABO3와 같은 산소 오크타에드럴 프레임워크로 인해 페로브스카이트와 같은 ferroelectric 행동을 나타냅니다.

 

 


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