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| 브랜드 이름: | ZMSH |
| 모델 번호: | lnoi wafers |
| 가격: | by case |
| 배달 시간: | 2-4weeks |
| 지불 조건: | T/T |
LNOI (Lithium Niobate on Insulator) 웨이퍼는 격리 기체 (예를 들어, 실리콘, 사파이어,이온 이식 및 직접 결합 기술을 통해.
주요 장점은 다음과 같습니다.
· 유연한 크기: 조정 가능한 필름 두께 (표준 600nm, 마이크로 스케일까지 확장) 로 사용자 정의 가능한 4~8인치 웨이퍼.
· 이질적 통합: 전기 광학 변조기, 양자 광원 등의 일체 통합을 위해 실리콘, 질소 및 유리와 호환됩니다.
· ZMSH 서비스: 웨이퍼 설계, 접착 프로세스 최적화, 웨이퍼 수준 제조 (사진, 에치, 금속화) 및 대량 생산에 프로토타입을 만드는 풀 키 솔루션.
| S.N. | 매개 변수 | 사양 |
| 1 | LNOI 웨이퍼 일반 사양 | |
| 1.1 | 구조 | LiNbO3 / 산화물 / Si |
| 1.2 | 직경 | Φ100 ± 0.2mm |
| 1.3 | 두께 | 525 ± 25μm |
| 1.4 | 기본 평면 길이 | 32.5 ± 2mm |
| 1.5 | 웨이퍼 비벨링 | R 타입 |
| 1.6 | LTV | <1.5μm (5×5 mm2) / 95% |
| 1.7 | 굴복 | +/-50μm |
| 1.8 | 워프 | <50μm |
| 1.9 | 가장자리 정비 | 2 ± 0.5mm |
| 2 | 리?? 니오바트 층 사양 | |
| 2.1 | 평균 두께 | 400 nm ± 10 nm |
| 2.2 | 방향성 | X축 ±0.5° |
| 2.3 | 기본 평면 방향 | Z축 ±1° |
| 2.4 | 앞면 부러움 (Ra) | < 1 nm |
| 2.5 | 채권 결함 | >1mm 누적 80분당 ≤1mm |
| 2.6 | 앞면 경사 | >1cm 누적 ≤3cm 내의 ≤1cm |
| 3 | 산화물 (SiO2) 층 사양 | |
| 3.1 | 두께 | 4700 ± 150 nm |
| 3.2 | 통일성 | ± 5% |
| 4 | Si 계층 사양 | |
| 4.1 | 소재 | 네 |
| 4.2 | 방향성 | <100> ±1° |
| 4.3 | 기본 평면 방향 | <110> ±1° |
| 4.4 | 저항성 | > 10 kΩ·cm |
| 4.5 | 뒷면 | 새겨진 |
| 참고:시용/최근 OEM의 허가 필요 | ||
- 네1. 물질적 특성:
· 높은 전기 광학 계수 (r33 ≈ 30 pm/V) 와 넓은 투명성 창 (0.35μm), UV-MIR 응용 프로그램을 가능하게합니다.
· 초고속 변조 및 양자 주파수 변환을 위한 극저도 파도 유도 손실 (<0.3 dB/cm) 및 높은 비선형성.
2.프로세스 장점:
· 300nm 이하의 필름은 > 60 GHz 대역폭 변조기를 지원하여 모달 볼륨을 줄입니다.
· 결합 인터페이스 엔지니어링 (예를 들어, amorphous 실리콘 층) 을 통해 열 확장 불일치 완화.
- 네3. 성과 비교:
· 실리콘 광학/인프라: 낮은 전력 소비 (<3V 반파전압), 더 높은 소멸 비율 (>20 dB), 50% 더 작은 발자국.
1.고속 광통신:
- 그래요전기 광학 변조기: 800 Gbps/1.6 Tbps 모듈을 >40 GHz 대역폭으로, 실리콘보다 3배 효율성을 가능하게 한다.
- 네- 일관성 모듈: 소손실과 높은 신뢰성을 가진 장거리 전송을 위해 실리콘 광학과 이질적으로 통합됩니다.
- 네2. 양자 정보 시스템:
- 네- 양자 광원: 칩에 있는 양자 상태 조작을 위한 통합된 얽힌 광자 쌍 생성기
- 그래요양자 컴퓨팅 칩: 큐비트 제조 및 오류 용인 아키텍처를 위해 LiNbO3의 비선형성을 활용하십시오.
- 네3. 감지 및 영상 촬영:
- 네- 테라헤르츠 감지기: EO 변형을 통해 mm 해상도를 가진 비 냉동 영상.
- 그래요광섬유 자이로스코프: 항공우주용 고정도 관성 내비게이션
- 네4. 광학 컴퓨팅과 인공지능 가속:
- 네- 광학 IC: AI를 병렬 처리하기 위한 최저 지연의 논리 게이트와 스위치
1핵심 서비스:
웨이퍼 커스터마이징: X-컷/Z-컷 오리엔테이션, MgO 도핑 및 묻힌 산화물 층 두께 (50 nm ∼ 20 μm) 와 함께 4 ′′ 8 인치 LNOI 웨이퍼.
이질적 통합: 하이브리드 EO 광학 칩 (예: 레이저 모듈러 단석) 을 위해 실리콘, 사파이어 또는 질산화물과 결합.
제조 서비스: 150 nm UV 리토그래피, 건조 에치, Au/Cr 금속화 및 웨이퍼 수준의 포장/시험.
엔드-투-엔드 지원: 디자인 시뮬레이션 (PIC 스튜디오 도구), 양산 최적화 및 본격적인 생산.
2기술 발전:
더 큰 웨이퍼: 비용 절감 및 용량 확장을위한 8 인치 LNOI로 전환.
초느다란 필름: 짧은 파장 흡수 한도를 극복하기 위해 <200nm 필름을 개발합니다. (보기 가능한 빛 응용 프로그램).
하이브리드 통합: 레이저 모듈러 통합을 위해 III-V 물질 (InP) 과 결합.
스마트 제조: 결함 (<1 결함/cm2) 을 줄이기 위해 인공지능에 의해 작동되는 에칭 매개 변수 최적화
1질문: 리?? 탄탈레이트와 리?? 니오바이트는 같나요?- 네
A: 아닙니다. 리?? 탄탈레이트 (LiTaO3) 와 리?? 니오바트 (LiNbO3) 는 서로 다른 화학 성분을 가진 다른 물질입니다.Nb) 그러나 유사한 결정 구조 (R3c 공간 그룹) 와 철 전기적 특성을 공유합니다.
2질문: 리?? 니오바이트는 페로브스카이트인가요?- 네
A: 아닙니다. 리?? 니오바트는 정규 ABX3 페로브스카이트 구조와 다른 비 페로브스카이트 구조 (R3c 공간 그룹) 에서 결정화된다. 그러나, 그것은 ABO3와 같은 산소 오크타에드럴 프레임워크로 인해 페로브스카이트와 같은 ferroelectric 행동을 나타냅니다.
태그: #3인치/4인치/6인치/8인치, # 커스터마이즈, # 리?? 니오배트 얇은 필름, # LNOI 웨이퍼, # 닦이지 않은, # 광학 손실 <0.05 dB/cm, # X-컷 Y-컷 Z-컷 오리엔테이션
