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SHANGHAI FAMOUS TRADE CO.,LTD
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n형 / 도프하지 않은 타입 갈륨 비소 웨이퍼 가스브 2 인치 INA 웨이퍼
  • n형 /  도프하지 않은 타입 갈륨 비소 웨이퍼 가스브 2 인치 INA 웨이퍼
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n형 / 도프하지 않은 타입 갈륨 비소 웨이퍼 가스브 2 인치 INA 웨이퍼

원래 장소 중국
브랜드 이름 ZMSH
인증 CE
모델 번호 n형 / p형
제품 상세정보
재료:
InAs 단일결정
두께:
500 um ±25um
타입:
Un-doepd/ Sn/S/Zn-doped
배향:
100/111
성장법:
LEC
애플리케이션:
적외선 찬빛 장치
산업:
반도체 기판
서피스:
DSP / SSP
하이 라이트: 

2 인치 InAs 웨이퍼

,

n형 가스브 웨이퍼

,

도프하지 않은 타입 갈륨 비소 웨이퍼

제품 설명

 

 

32 인치 InAs는 n형 도프하지 않은 유형 GaA 웨이퍼 가스브 웨이퍼를 웨이퍼로 만듭니다

 

애플리케이션

 

INA 단일 결정은 InAsSb/InAsPSb, 인나스즈비와 다른 이질 접합 소재를 성장시키기 위해 기판 물질로서 사용될 수 있고 생산 파장이 2~14 μ M 적외선 발광 장치입니다. INA 단결정체 기판은 또한 알가스브 초격자 구조 재료의 열벽 증착기와 중간 적외선 양자 캐스캐이드 레이저의 생산을 위해 사용될 수 있습니다. 이러한 적외선 장치는 가스 검출과 저손실 광섬유 전송의 분야에서 좋은 적용 전망을 가지고 있습니다. 게다가 InAs 단일 결정은 전자의 고이동성을 가지고 있고, 홀 소자에 쓸 이상적인 소재입니다.

 

 

제품 특성

 

● 크리스탈은 발달한 기술과 안정적 전기적 실행과 액체 봉인 초크랄스키 (LEC) 기술에 의해 성장됩니다


● x선 방위 측정 기구는 정확한 오리엔테이션을 위해 사용되고 결정 방위 일탈은 ± 0.5 오우 일 뿐입니다


● 웨이퍼는 화학 기계적 연마 (CMP) 기술에 의해 닦이고, 조도는 0.5nm 이합니다


●는 사용 요구를 충족시킵니다의 박스에서


● 특별한 상술 제품은 사용자 요구에 따라 처리될 수 있습니다

 

명세서 상세를 웨이퍼로 만듭니다

                                                       전기적 매개 변수
불순물  타입

캐리어 농도

(cm-3)

이동성

(cm2V-1s-1)

전위 밀도

(cm-2)

도프하지 않은 n형 <5x1016 ≥2x104 ≤50000
SN 투여됩니다 n형 (5-20)x1017 >2000 ≤50000
S-도핑된 n형 (3-80) x1017 >2000 ≤50000
아연이 첨가됩니다 p형 (3-80) x1017 60~300 ≤50000
사이즈 2" 3"
지름(MM) 50.5±0.5 76.2±0.5
두께(um) 500±25 600±25
배향 (100)/(111) (100)/(111)
배향 톨레라네 ±0.5o ±0.5o
OF 길이(MM) 16±2 22±2
2 거리 OF 길이(MM) 8±1 11±1
TTV(um) <10 <10
활(um) <10 <10
날실(um) <15 <15

 

n형 /  도프하지 않은 타입 갈륨 비소 웨이퍼 가스브 2 인치 INA 웨이퍼 0n형 /  도프하지 않은 타입 갈륨 비소 웨이퍼 가스브 2 인치 INA 웨이퍼 1

 

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ZMSH가 반도체 웨이퍼 공급으로서 SiC, GaN, III-V 그룹 화합물과 기타 등등의 반도체 기판과 에피택셜 웨이퍼를 제공합니다.

 

 

언제든지 우리와 연락하세요

86-1580-1942596
Rm5-616,No.851, 디안샨후 비뉴, 치잉푸 지역, 상하이 시, 중국
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