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반도체 공정용 웨이퍼 핸들링 부식 내열 SiC 엔드 이펙터

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반도체 공정용 웨이퍼 핸들링 부식 내열 SiC 엔드 이펙터

High Purity SiC End Effector for Wafer Handling Corrosion Heat Resistant Fork for Semiconductor Processing
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큰 이미지 :  반도체 공정용 웨이퍼 핸들링 부식 내열 SiC 엔드 이펙터

제품 상세 정보:
원래 장소: 중국
브랜드 이름: ZMSH
인증: rohs
결제 및 배송 조건:
최소 주문 수량: 5
가격: 100
포장 세부 사항: 폼 쿠션 + 상지 박스
배달 시간: 3-4 주
지불 조건: T/T
공급 능력: 1000per 달
상세 제품 설명
표면 저항: 10 ~ ~ 10 Ω 크기: 사용자 정의 가능 (4-12 인치 웨이퍼의 경우)
순수성: 990.9% 밀도: D=8.91(g/cm3)
직경: 25-500 음 적용: 패키지 테스트, 칩 분류
의학적 장점: 굴곡 강도> 400 MPa 저항률: 0.1~60ohm.cm
열 저항: 1600 C 화학물질 저항성: 산, 염기 및 혈장에 내성
강조하다:

반도체 공정 SiC 엔드 이펙터

,

웨이퍼 핸들링 SiC 엔드 이펙터

,

내식성 SiC 엔드 이펙터

 

제품 설명:

 

저희 SiC 엔드 이펙터는 반도체 제조 환경에서 초청정 웨이퍼 취급을 위해 설계되었습니다. 고순도 탄화규소를 사용하여 제조된 이 포크는 뛰어난 내열성조밀하고 미세한 입자의 SiC 바디는 화학적 안정성, 그리고 기계적 강도를 제공하여 에칭, 증착, 고온 이송 시스템과 같은

가혹한 공정 챔버에서 사용하기에 이상적입니다.조밀하고 미세한 입자의 SiC 바디는 낮은 입자 발생, 우수한 치수 안정성, 그리고

 


 

200mm ~ 300mm 웨이퍼

  • 와의 호환성을 보장합니다. 특정 로봇 팔 및 웨이퍼 캐리어에 대한 맞춤형 디자인을 사용할 수 있습니다.

 

  • 주요 특징:

 

  • 재질: 고순도 탄화규소 (SiC)

 

  • 뛰어난 내열성 (최대 1600°C)

 

  • 우수한 화학적 및 플라즈마 부식 저항성

 

  • 높은 기계적 강도 및 강성

 

  • 클린룸 사용을 위한 낮은 입자 발생

 


 

 

4", 6", 8", 12" 웨이퍼 취급 가능

 

로봇 호환성을 위한 맞춤형 모양 및 슬롯 제품 사양:
매개변수 사양
재질 고순도 SiC (≥99%)
크기 맞춤형 (4~12인치 웨이퍼용)
표면 마감 요구 사항에 따라 연마 또는 무광택
내열성 최대 1600°C
화학적 저항성 산, 염기 및 플라즈마에 강함
기계적 강도 굽힘 강도 > 400 MPa

 

 

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클린룸 등급
 

Class 1~100에 적합

연락처 세부 사항
SHANGHAI FAMOUS TRADE CO.,LTD

담당자: Mr. Wang

전화 번호: +8615801942596

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