닦지 않은 사파이어 튜브 KY 방법 무작위 빈크 사용자 지정 크기

닦지 않은 사파이어 튜브 KY 방법 무작위 빈크 사용자 지정 크기

ZMSH는 초고 순수 알루미나 (Al2O3 ≥ 99.99%) 고품질의 단일 크리스탈을 생산하기 위해 키로폴로스 (KY) 방법 또는 엣지 정의 필름 피드 성장 (EFG) 방법을 사용하여, 그 다음 정밀 가공. 우리의 제품은 Φ5mm에서 Φ150mm까지의 다양한 지름과 사용자 정의 가능한 벽 두께 (0.5-20mm) 는 반도체에 대한 엄격한 요구 사항을 충족합니다., 광 전자 및 산업 장비 응용 프로그램.

크리스탈 성장과 정밀 가공에 대한 10년 이상의 전문 지식을 바탕으로, 우리는 5,000개 이상의 월 생산량을 유지하고 있습니다.우리는 안정적으로 비공형 조각을 공급하고 후속 정밀 처리 (CNC 절단 포함) 를 지원합니다, 고 정밀 뚫기, 끝 표면 깎기 등). Future R&D will focus on optimizing manufacturing processes for large-diameter sapphire tubes (Φ200mm+) and improving cost efficiency to expand applications in high-end markets such as semiconductor equipment레이저 광학과 새로운 에너지.

사파이어 튜브 의 주요 특징

• 탁월 한 단단성 (Mohs 9):다이아몬드, 사파이어 튜브 다음으로 높은 마찰 환경에 뛰어난 마모 저항을 제공합니다.

• 뛰어난 열 저항성:닦지 않은 사파이어 튜브는 급격한 온도 변동에 뛰어난 열 충격 저항을 유지하면서 2050 ° C까지의 극한 온도에도 견딜 수 있습니다.

• 화학적 무력성:닦지 않은 사파이어 튜브는 강한 산 (예를 들어, HF), 알칼리 및 플라스마 경식에 대한 뛰어난 저항성을 보여 반도체 발열 과정에 이상적입니다.

• 광학 성능:가시 스펙트럼 (400-700nm) 에서 80% 이상의 광전도를 유지하며, 일부 광학 응용에 적합합니다.

• 기계적 견고성:굽힘 강도 > 400MPa와 압축 강도 > 2GPa로 고압 및 고 스트레스 환경에 적합합니다.

의 주요 응용 프로그램사파이어 튜브

1반도체 장비:
• 플라즈마 에칭 챔버 라인: 부패 및 플라즈마 침식 저항은 장비의 수명을 연장합니다.
• 웨이퍼 가공 관찰 창 기판: 사피어 튜브의 높은 투명성과 열 저항은 명확한 프로세스 모니터링을 보장합니다.

2산업용 창문:
• 고온 오븐 관측 튜브: 사피어 튜브 1800°C 이상의 환경에서도 안정적으로 작동합니다.
• 고전력 레이저 장비 보호 수면: 열 충격 저항은 레이저 산란 손상을 방지합니다.

3광전자 부품:
• UV/IR 센서 보호 수면: 높은 전파성과 환경 저항성을 결합합니다.
• 광 시스템 빈 부품: 후속 정밀 닦거나 코팅을위한 기판으로 사용됩니다.

4과학 도구:
• 극한 환경 실험 장치 (예: 초고압, 강렬한 방사선): 사피어 튜브는 신뢰할 수 있는 소비 가능한 솔루션을 제공합니다.

관련 제품

국내 사파이어 소재 공급업체 중 대표적인 ZMSH는 R&D와 닦이지 않은 사파이어 튜브 생산에 중점을 두고 있습니다.크리스탈 성장 및 빈 처리에서 맞춤형 정밀 형성까지의 원스톱 서비스를 제공합니다.우리의 독자적인 제조 기술은 결정 순수 (<10ppm 불순물) 및 변질 밀도 (<103/cm2) 를 포함한 주요 매개 변수에서 산업 선도적인 성능을 보장합니다.

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