강조하다: 
                                                                                                                                                                                                                                                                                AlN 세라믹 기판 플레이트, 중첩 세라믹 기판 플레이트, 중첩 표면 Al 세라믹
                              

재료:	AlN 세라믹 플레이트	응용 프로그램:	반도체 가공용 세라믹 판
색상:	하얀	크기:	25x25x2mmt
청정:	99.95%	높은 열전도율:	200W
표면:	랩핑

재료:	AlN 세라믹 플레이트
응용 프로그램:	반도체 가공용 세라믹 판
색상:	하얀
크기:	25x25x2mmt
청정:	99.95%
높은 열전도율:	200W
표면:	랩핑

겹쳐진 지상 처리를 가진 25x25x2mmt AlN 세라믹 기질 판

높은 열전도율 200w의 25x25x2mmt AlN 세라믹 기판 플레이트

알엔 소개

질화알루미늄(AlN) 세라믹은 열전도율이 높으며(알루미나 세라믹의 5~10배),

낮은 유전 상수 및 유전율, 우수한 절연성 및 우수한 기계적 특성, 무독성, 높은 내열성, 내화학성 및 선팽창 계수는 Si와 유사합니다.

차세대 세라믹 재료인 AlN 세라믹은 점점 더 많은 관심을 받고 있습니다.선두에서

국내 기업 수준', 우리 회사 AlN 세라믹 기판의 품질은 국제 선진 수준에 도달합니다.그것은 통신 부품, 고전력 led, 전력 전자 장치 및 기타 분야에서 널리 사용됩니다.

우리의 협력 공장은 알루미나 기질의 제조를 위해 주조 테이프 공정을 적용할 수 있습니다.우수한 열전도율, 절연성, 열충격 저항성, 우수한 저항성 및 내산성 및 알칼리성 등으로 당사의 세라믹 기판은 후막 하이브리드 집적 회로(HIC), LED 세라믹 방사 베이스, 전력 모듈, 반도체 장치 및 다른 분야.

AlN 기능 및 장점

- 상품명:	질화알루미늄 / AIN 세라믹 기판
- 재료:	질화알루미늄 / AlN
- 전형적인 특성:	1. 매우 높은 열전도율 2. 우수한 전기 절연성 3. 내식성 4. 좋은 평탄도
- 일반적인 응용 프로그램:	1. 전력전자기기 2. 고휘도 LED 3. 통신기기

재료 속성

속성 / 재질	96% 알루미나	알엔
밀도(g/cm삼)	3.6	3.3
색상	하얀	회색
유전 강도(KV/mm)	≥17	≥17
유전 상수(1MHz)	10.6	8.9
체적 저항(@20°C, Ω.cm)	≥1014	≥1014
열전도율(@20°C, W/mk)	≥24	≥175
열팽창 계수(10-6/°C)	6.5-8.0	4.8
굴곡 강도(MPa)	≥350	≥450

겹쳐진 지상 처리를 가진 25x25x2mmt AlN 세라믹 기질 판 0

겹쳐진 지상 처리를 가진 25x25x2mmt AlN 세라믹 기질 판 2

기타 관련 레귤러 사이즈

두께(mm)	길이x폭(mm)
0.385	2″* 2″ 50.8mm*50.8mm		3″* 3″ 76.2mm*76.2mm			4″* 4″ 101.6mm*101.6mm			4.5″* 4.5″ 114.3mm*114.3mm
0.5
0.635
1.0
	직경(mm)
1.0	Φ16 Φ19	Φ20 Φ26		Φ30 Φ35	Φ40 Φ45		Φ50 Φ52	Φ60		Φ75	Φ80
1.2
1.5
2.0
2.5

직경(mm)					두께(mm)
2'' (50.8mm) 16mm의	삼'' (76.2mm) OF22mm	4'' (100mm) 30mm의	5" (125mm) 42.5mm의	6" (150mm) 47.5mm의	0.385
					0.5
					0.65
					1.0