2inch 6H-Semi sic 웨이퍼, 주문을 받아서 만들어진 sic 기질, 2inch 6H-N sic 웨이퍼, sic 수정같은 주괴, 실리콘 탄화물 웨이퍼
응용 범위
실리콘 탄화물 물자 재산
재산 | 4H SiC의 단결정 | 6H SiC의 단결정 |
격자 모수 | a=3.076 Å c=10.053 Å | a=3.073 Å c=15.117 Å |
순서를 겹쳐 쌓이기 | ABCB | ABCACB |
Mohs 경도 | ≈9.2 | ≈9.2 |
조밀도 | 3.21 g/cm3 | 3.21 g/cm3 |
Therm. 확장 계수 | 4-5×10-6/K | 4-5×10-6/K |
굴절 색인 @750nm |
= 2.61 ne = 2.66 |
= 2.60 ne = 2.65 |
절연성 불변의 것 | c~9.66 | c~9.66 |
열 전도도 (N 유형, 0.02 ohm.cm) |
a~4.2 W/cm·K@298K c~3.7 W/cm·K@298K |
|
열 전도도 (반 격리) |
a~4.9 W/cm·K@298K c~3.9 W/cm·K@298K |
a~4.6 W/cm·K@298K c~3.2 W/cm·K@298K |
밴드 간격 | 3.23 eV | 3.02 eV |
고장 전기장 | 3-5×106V/cm | 3-5×106V/cm |
포화 표류 속도 | 2.0×105m/s | 2.0×105m/s |
표준 spec.
2inch 직경 실리콘 탄화물 (SiC) 기질 명세 | ||||||||||
급료 | 영 MPD 급료 | 생산 급료 | 연구 급료 | 거짓 급료 | ||||||
직경 | 50.8 mm±0.2mm | |||||||||
간격 | 330 μm±25μm 또는 430±25um | |||||||||
웨이퍼 오리엔테이션 | 축선 떨어져: 축선에 <1120> 4H-N/4H-SI를 위한 ±0.5°로 4.0°: <0001>6H-N/6H-SI/4H-N/4H-SI를 위한 ±0.5° | |||||||||
Micropipe 조밀도 | ≤0 cm-2 | ≤5 cm-2 | ≤15 cm-2 | ≤100 cm-2 | ||||||
저항력 | 4H-N | 0.015~0.028 Ω•cm | ||||||||
6H-N | 0.02~0.1 Ω•cm | |||||||||
4/6H-SI | ≥1E5 Ω·cm | |||||||||
1 차적인 평지 | {10-10} ±5.0° | |||||||||
1 차적인 편평한 길이 | 18.5 mm±2.0 mm | |||||||||
이차 편평한 길이 | 10.0mm±2.0 mm | |||||||||
이차 편평한 오리엔테이션 | 위로 향한 실리콘: 90° CW. 주요한 편평한 ±5.0°에서 | |||||||||
가장자리 배타 | 1개 mm | |||||||||
TTV/Bow /Warp | ≤10μm/≤10μm/≤15μm | |||||||||
소밀 | 광택이 있는 Ra≤1 nm | |||||||||
CMP Ra≤0.5 nm | ||||||||||
고강도 빛으로 균열 | 아무도 | 1장의 허용하는, ≤2 mm | 점증적으로 길이 ≤ 10mm, 단 하나 length≤2mm | |||||||
고강도 빛에 의하여 육 판 | 점증적으로 지역 ≤1% | 점증적으로 지역 ≤1% | 점증적으로 지역 ≤3% | |||||||
고강도 빛에 의하여 Polytype 지역 | 아무도 | 점증적으로 지역 ≤2% | 점증적으로 지역 ≤5% | |||||||
고강도 빛에 의하여 찰상 | 1×wafer 직경 점증적으로 길이에 3개의 찰상 | 1×wafer 직경 점증적으로 길이에 5개의 찰상 | 1×wafer 직경 점증적으로 길이에 5개의 찰상 | |||||||
가장자리 칩 | 아무도 | 3장의 허용하는, ≤0.5 mm 각각 | 5장의 허용하는, ≤1 mm 각각 | |||||||
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