사파이어 윈도우:고위 순수성 단일 결정 알루미나 α-Al2O3 완전히 사용자 정의 가능한 매우 투명

제품 개요

사파이어 창문은 키로폴로스 방법으로 재배된 고순도 단일 결정 알루미나 (α-Al2O3) 잉글로스로 제조된 고정도의 광 전송 요소입니다.방향성 슬라이싱을 포함한 여러 프로세스를 통해, 정밀 랩, 화학 기계 닦기 및 초 깨끗한 청소. 고급 산업 뷰 포트의 핵심 재료로, 그것은 단일 결정 사파이어의 모든 본질적인 장점을 상속,우수한 광학 동질성을 결합합니다., 초고 온도 저항, 우수한 기계적 경화, 강한 플라스마 부식 저항 및 뛰어난 전기 단열.그것은 융합 실리카와 보로실리카트 유리와 같은 전통적인 뷰포트 재료에 고급 업그레이드 대안으로 사용됩니다..

이 제품은 자외선에서 중부 적외선까지 넓은 대역에서 높은 전파를 제공합니다. 그리고 전체 차원의 사용자 정의를 지원합니다.복수의 결정 지향 및 다양한 광학 코팅을 통해 광학, 다양한 작업 조건에서 기계 및 열 요구 사항. 반도체 제조, 고온 산업, 레이저 광학, 화학 연구,항공우주 및 국방, 그리고 플라즈마 폭격, 고 온도 및 압력, 강한 부식 및 높은 진공과 같은 극한 조건 하에서 오랫동안 안정적으로 작동 할 수 있습니다.

주요 기술 특성

1고순도 단일 결정 물질 시스템
키로폴로스 방법으로 재배된 고순도 알루미나 단일 크리스탈 4N5 등급 (≥99.995%) 으로 제작된 전체 창문은 곡물 경계, 구멍 및 불순물 분리 없이 완전한 단일 크리스탈입니다.내부 결함 밀도가 낮고 균일한 스트레스, 그것의 광적 일관성은 극심한 작업 조건에서 장기적인 성능 안정성을 보장하는 폴리 크리스탈린 세라믹 및 유리 재료보다 훨씬 우월합니다.

2폭넓은 스펙트럼의 높은 전송 성능

    190nm UV에서 4.5μm 중 적외선까지 넓은 대역에서 우수한 전파를 제공합니다. 표준 C 평면 이중 양면 닦은 창문은 가시광선 대역에서 85% 이상의 전파를 달성합니다.C 평면 절단 디자인은 광 축을 따라 전송, 효과적으로 결정 이중 굴절의 영향을 줄이고 광학 영상 및 검출 정확성을 보장합니다.반사 방지 및 고 반사 코팅과 같은 기능성 코팅은 요구 사항에 따라 광학적 효율성을 더욱 향상시킬 수 있습니다..

3- 초고온 및 열 충격 저항성

    이 물질은 2050°C까지의 녹는 지점과 산화 대기에서 1600°C까지의 장기 연속 작업 온도를 가지고 있습니다. 5.8 ~ 7의 열 팽창 계수.7×10−6/°C (분석 방향에 따라 달라집니다)일반 유리보다 훨씬 낮고, 균열없이 심한 열 충격에 견딜 수 있습니다. 높은 온도에서 차원 변형은 최소입니다.튜브 오븐과 같은 극한 열 시나리오에 적합합니다., 고온 원자로와 플라즈마 챔버

4극대 기계 강도 및 마모 저항
모스 경도는 9 ( 다이아몬드 다음으로 두 번째), 굴곡 강도는 약 400MPa 및 압축 강도는 약 2000MPa입니다.창문 표면은 마모 및 스크래치 저항, 고압 공기 흐름 침식, 입자 마찰 및 기계적 충격에 견딜 수 있습니다. 장기간 사용 후 스크래치 및 마모를 일으키는 것이 쉽지 않습니다.그리고 그 사용 기간은 융합 실리카 유리창의 3-5배입니다., 장비 운영 및 유지보수 비용을 크게 줄입니다.

5강한 화학적 무력성 및 플라스마 저항성
그것은 방온에서 모든 강한 산, 알칼리 및 유기 용매에 거의 용해되지 않으며 수소화산과 뜨거운 인산산에 의해 천천히 부식됩니다.또한 반도체 발열 및 퇴적 과정에서 입자 침착 및 재료 노화 없이 훌륭한 플라스마 폭격 저항성을 가지고 있습니다.방의 청결과 제품 생산을 효과적으로 보장합니다..

6우수한 전기 단열 및 다이 일렉트릭 특성
  내성 고순결 사파이어는 방온 저항성이 1014 Ω·cm 이상이며, 전기 단열이 우수하고, 안정적인 변전체 상수 및 변전체 손실이 극히 낮다.그것은 누출없이 고전압 및 고주파 조건 하에 신뢰할 수있는 전기 격리, 분출 및 신호 간섭, RF 플라즈마, 고전압 전력 및 마이크로 웨브 장치와 같은 특수 시나리오에 적합합니다.

7전체 매개 변수 커스터마이징 및 정밀 가공 능력
   모양, 크기, 두께, 결정 방향 및 표면 정밀의 풀 차원 사용자 정의가 지원됩니다. 원형, 정사각형, 직사각형,단계 및 특수 모양을 처리 할 수 있습니다.정밀 칸프링, 가장자리 칸프링, 파리,슬로팅 및 금속화 밀폐는 다양한 장비의 설치 인터페이스와 프로세스 요구 사항에 정확하게 일치하도록 완료 될 수 있습니다..

8반도체 수준의 청결 관리
    반도체 품질의 제품은 여러 가지 초정화 청소 과정을 채택하고, 100급/1000급 청정실에서 검사 및 진공 포장됩니다.표면 입자와 금속 이온 잔류는 엄격히 통제됩니다.그들은 고 순수성 프로세스 시나리오에서 직접 사용할 수 있습니다. 웨이퍼 제조 및 플라즈마 에칭과 같이, 완전한 분석 인증서 (COA) 가 제공됩니다.

표준 사양

전형적 사용법

1. 반도체 제조: 에처용 카메라 뷰포트, 진공 창문 및 플라즈마 보호 창문, 플라즈마 진열에 저항하고 공정 청결성을 보장하는 PVD/CVD 퇴적 장비
2. 고온 산업: 튜브 오븐, 고온 합금 오븐 및 고압 원자로의 관측 창문1600°C의 고온과 열 충격에 견딜 수 있는 장시간 작동
3. 광 레이저 필드: 고전력 레이저 출력 보호 창, 스펙트럼미터 탐지 창, UV/IR 광학 기기 창, 센서 보호 렌즈
4. 화학 및 과학 연구: 고독성 반응 챔버, 고압 유체 관측 창문, 실험실 고온 원자로 창문
5. 항공 및 특수 분야: 적외선 감지 창문, 방사선 내성 광 보호 부품, 심해 감지 압력 내성 전망장

품질 관리
모든 과정의 품질 관리 시스템은 잉크 선택에서 완제품 납품에 이르기까지 설치되며 각 창문은 엄격한 다차원 검사를 받는다.주요 검사 항목은: 크리스탈 방향 편차의 XRD 검증, 웨이퍼 전체 크기와 두께 균일성 검사, 평면성 및 평행성 간섭 테스트, 표면 거칠성 및 결함 스크린전체 시력 결함 검사, 송출성 샘플링 검사 및 청결성 테스트 모든 제품 등급에 대한 완전한 분석 인증서 (COA) 를 제공 할 수 있습니다.반도체 품질의 제품은 깨끗한 포장 사양을 엄격히 준수합니다., 높은 수준의 산업 및 과학 연구 시나리오의 엄격한 요구 사항을 충족시키기 위해 정확한 제품 매개 변수와 안정적인 성능을 보장합니다.

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